ドライアイスの粒子をウエハーに噴射し、小さなゴミを取り除く大陽日酸の半導体向け洗浄装置(13日、北九州学研都市)

日本酸素ホールディングス傘下の大陽日酸(東京・品川)は13日、半導体関連装置の研究開発拠点を北九州学術研究都市(北九州市)の技術開発交流センター内に開設した。ウエハーの洗浄装置などの開発に取り組む。同社にとって西日本初の研究拠点で、顧客へのデモンストレーションや学生との接点としても活用する。

まず大型のシリコン製ウエハーの洗浄装置を12月にも開発する。ドライアイスの粒子を噴射し、昇華させて小さなごみを取り除く。有機溶剤を使わないので廃液の処理や乾燥工程が不要になる。さらにパワー半導体に使う炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)などの化合物半導体のウエハーにも使えるようにする。

拠点にはペースト状にしたステンレスやニッケル系合金で成形する3次元(3D)プリンターのデモ機も置く。アルゴンガスを充填した炉で焼結して、金属の酸化を防ぐ。治具の試作品などが簡単に製作できる。

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