三菱ケミカルグループは11日、半導体製造装置部品の洗浄サービスで福島県に工場を新設すると発表した。すでにある岩手県の工場もあわせて増強する。投資額は合計で約30億円。2カ所とも2026年10月に稼働する計画で、半導体市場の拡大に合わせ洗浄サービスの受け入れ能力を引き上げる。
半導体製造装置メーカーや半導体メーカーの工場の近くに拠点を設けて部品を洗浄するサービスで、国内では子会社の新菱（北九州市）が手がける。今回新設・増強する分の洗浄能力は現在の岩手工場の能力と同等程度だという。半導体製造工程では削る工程などで微細な粉が出て汚れるため、定期的に洗浄する必要がある。
半導体市場の拡大に合わせ洗浄への需要も高まっており、国内での対応を強化する。米国の洗浄事業では収益が悪化し、3カ所の拠点の閉鎖を決定している。付加価値の高い最先端半導体向けに注力することで収益につなげたい考えだ。
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